all Kategorie
Company Annonce

Meilesteen-Update: Déi nei Anlag vu Semixlab geet an d'Cleanroom-Phase – De Verlagerung vun der Ausrüstung ass bis Enn vum Joer nach ëmmer um richtege Wee.

2026-06-06

Zhejiang, 3. Juni 2026 – Semixlab, eng bekannt international Mark a fortgeschrattene Hallefleiterbeschichtungen, huet zesumme mat senger Produktiouns- a Fuerschungs- an Entwécklungsbasis Zhejiang Liufang Semiconductor Technology Co., Ltd., e wichtege Meilesteen am Bau erreecht. Nodeems de Bau vum Haaptrahmen (Topping-out) fäerdeg war, ass de Projet elo direkt an d'Héichpräzisiouns-Innenausstattungsphase iwwergaangen. Am Moment gëtt en Top-Cleanroom-System a Hallefleiterqualitéit detailléiert bannenzeg Aarbechten an architektonesch Iwwerpréiwunge gemaach.

Déi aktuell Konstruktioun ëmfaasst fortgeschratt Ëmweltkontrollen, lokaliséiert ultra-rein Päifnetzwierker a lokaliséiert HVAC-Laminarstroummoduler - all entwéckelt fir strikt Partikelzuellimiten ze erfëllen. Laut dem Projetkommandobüro gëtt erwaart, datt déi komplett bannenzeg Veraarbechtung, d'Installatioun vum Loftfiltersystem an d'Zertifizéierung vun de Cleanrooms an de kommende Véierel ofgeschloss ginn. Doduerch ass d'Team um richtege Wee fir d'Versetzung, d'Kalibrierung an déi éischt Testlafe vun der fortgeschrattener CVD-Ausrüstung bis Dezember 2026 ofzeschléissen.

Semixlab sic Beschichtungskomponenten Lab

Figur 1: Vue vun der erfollegräich fäerdeger Produktiounsanlag.


Halbleiter EPI Veraarbechtung

Figur 2: Vue vun bannen, déi d'strukturell Bereetschaft an déi lafend Layoutoptimiséierunge weist.

Grouss Erhéijung vun der Kapazitéit fir Beschichtungen vun der nächster Generatioun

De Wiessel vun enger kaaler Betonstruktur op eng ultra-propper Halbleiterproduktiounsëmfeld ass eng grouss Saach fir d'Produktiounskapazitéit vu Semixlab. Déi nei Anlag huet eng Fläch vu méi wéi 80,000 Quadratmeter. Soubal se voll a Betrib ass, wäert se als Zentrum fir grouss Produktioun déngen, mat dem Zil, déi global Versuergungsproblemer um Pan-Hallefleedermaart ze reduzéieren.

Zu den Haaptausrüstunge vun der Anlag gehéieren Héichtemperatur-CVD-Uewen vun der nächster Generatioun, fortgeschratt Vakuumreinigungssystemer an automatiséiert ultrapräzis CNC-Bearbeitungszentren. Dank dem Halbleiter-Cleanroom ginn all Komponenten an enger kontaminatiounsfräier Ëmwelt oflagert, gereinegt a schliisslech verpackt. Dat ass essentiell fir déi extrem niddreg Äschegehalt (ënner 5 ppm iwwer GDMS) an Toleranzen fir Submikron-Déckt ze erfëllen, déi international Chipproduzenten fuerderen.

Wat dat fir Schlësselproduktlinnen bedeit

Semixlab Tac-Beschichtungskomponentenlaboratoire

Figur 3: Héichpräzis Ingenieurskonstruktioun Virbereedung fir d'Konstruktioun vun engem Reenraum a Hallefleederqualitéit.


Semixlab SiC Beschichtungsfabréck fir Hallefleiter-Epitaxie

Figur 4: Aktiv Installatioun vu spezialiséierte Buedem- a Loftreinigungsmoduler.

Well d'Ausrüstung nach ëmmer um Enn vum Joer bereet ass, mécht Semixlab sech prett fir d'Liwwerung vu senge Kärprodukter ze erhéijen, dorënner:

CVD Siliziumcarbid (SiC) Beschichtungen – fir héichreine SiC-Suszeptoren, Hallefmoundréng a Satellittescheiwen, déi mat de wichtegsten Epitaxiesystemer kompatibel sinn.

CVD Tantalkarbid (TaC) Beschichtungen – entwéckelt fir Komponenten mat héijen Temperaturen am Thermofeld, déi bis zu 2600°C stabil musse bleiwen, wat entscheedend ass fir de Wuesstum vu SiC- a GaN-Eenkristaller.

Pyrolytesch Kuelestoff (PyC) Beschichtungen – bitt dicht, net-poréis Dichtung fir spezialiséiert Graphitheizungen a Waferveraarbechtungshardware.

Ënnerstëtzt vun engem staarken Fuerschungs- an Entwécklungsteam mat Wëssenschaftler vun der Chinesescher Akademie vun de Wëssenschaften an dem Yongjiang Laboratoire, garantéiert d'Expansioun vu Semixlab flexibel, resilient a konsequent Qualitéit. Global Clienten kënnen virtuell Auditen plangen oder Komponentevalidatiounskits ufroen, wa mir eis op eist operationellt Zil fir de 4. Quartal zoubeweegen.

Hot Kategorien