all Kategorie
Graphite
Grafit Heizelementer
Hiersteller vu Grafit-Heizelementer
Grafit Heizelementer
Hiersteller vu Grafit-Heizelementer

Grafit Heizelementer


Place Hierkonft: China
Marque: Semixlab
Model Number: Grafit Heizelementer-01
Zertifikatioun: ISO9001
Mindestbestand Quantitéit: Sujet ze Verhandlunge
Präis: Kontakt fir personaliséiert Devis
Packaging Detailer: Standard Export Package
Liwwerzäit: 30-45 Deeg no der Bestellungsbestätegung
Bezuelen Konditiounen: T / T
Kapazitéit liwweren: 1000 Eenheeten/Mount
Beschreiwung

Grafit-Heizelementer gi präzis aus héichreinegem isostatesche Graphit (Reinheet ≥99.95%) hiergestallt a si fir extrem héich Temperaturen (bis zu 3000°C) a fuerdernd Prozessbedingungen entwéckelt. Wéinst hirer exzellenter Hëtztbeständegkeet, hirem niddrege Wärmeausdehnungskoeffizient a hirem stabile Widderstand gi dës Elementer wäit verbreet a Kär-Hallefleederherstellungsprozesser wéi Eenzelkristall-Wuesstumsuewen, CVD-Ausrüstung, epitaktesch Oflagerung an Héichtemperaturglühung benotzt. Si déngen och High-End-Applikatiounen wéi Vakuumuewen a wëssenschaftlecher Fuerschungsqualitéit an thermesch Felder fir Loftfaartmaterial.

Applikatioun:

Grafit-Heizelementer si fir héich Temperaturen an haart Ëmfeld entwéckelt a gi wäit verbreet a Vakuumuewen, Eenkristall-Wuesstumssystemer an der Hallefleederproduktioun benotzt. Si gi virun allem an der CVD-Oflagerung, epitaktischem Wuesstum an Héichtemperatur-Glühprozesser a Hallefleederprozesser benotzt. Si leeschte sech och aussergewéinlech gutt an thermesche Feldsystemer fir Eenkristall-Silizium-Wuesstum a Saphirkristallvirbereedung an der Photovoltaikindustrie.

Servicer déi geliwwert kënne ginn:

Client Applikatioun Szenario Analyse, passende Materialien, technesch Problemléisung.

Firma Profil:

Semixlab huet 2 Laboratoiren, en Team vun Experten mat 20 Joer Materialerfahrung, mat R&D a Produktioun, Testen a Verifizéierungsfäegkeeten.

Spezifikatioune

technesch Parameter

Projet Parameter
Material Isostatesch Grafit
Maximal Temperatur Vakuumumfeld 2800°C / Inertgas 3000°C
Resistivitéit 8~15 μΩ·m
Surface Behandlung Héichdichtbeschichtung (Anti-Oxidatioun, Anti-Korrosioun)
Dimensiounsgenauegkeet ± 0.1mm
Applicatioun

Main Applikatioun Felder

Applikatioun Richtung Typesch Szenario
Semiconductor Fabrikatioun Silizium/Siliziumkarbid epitakzial Uewenheizung, Ionenimplantatiouns-Postglühuewen thermescht Feld
Kristallwuesstum Saphir-Eenkristalluewen, photovoltaescht Polysilizium-Barrenheizungssystem
Vakuum Hëtzt Behandlung Héich Temperatur Sintering Uewen

Genehmegung vun der Verifizéierung vun der ökologescher Ketten

D'Verifizéierung vun der ökologescher Ketten vu Graphitheizelementer vu Semixlab deckt d'Rohmaterialien bis zur Produktioun of, huet international Standardzertifizéierung bestanen a verfüügt iwwer eng Rei patentéiert Technologien, fir hir Zouverlässegkeet an Nohaltegkeet am Beräich vun den Hallefleeder an den neien Energien ze garantéieren.

Fir detailléiert technesch Spezifikatiounen, Whitepaperen oder Beispiller vun Testarrangementer, kontaktéiert w.e.g. eisen techneschen Supportteam fir erauszefannen, wéi Semixlab Är Prozesseffizienz verbessere kann.

Kompetitiv Virdeel

Kärvirdeeler vu Semixlab Grafit Heizelementer

Excellent héich Temperatur Resistenz

Grafit-Heizelementer benotzen héichreine isostatesche Graphit, wat e laangfristege stabile Betrib an extremen Héichtemperaturëmfeld garantéiert. Graphit widdersteet Erweichung a Verformung bei héijen Temperaturen an eliminéiert de Risiko vun Verdampfung a Kontaminatioun, wouduerch seng Liewensdauer däitlech verlängert gëtt. Dës Elementer si besonnesch gutt geegent fir Héichtemperaturprozesser, déi Vakuum- oder Inertgasschutz erfuerderen, wéi Siliziumcarbid-Kristallwuesstum a Sinterung bei Héichtemperatur.

Uniform a stabil thermesch Feldverdeelung

Eis Graphitheizelementer erreechen eng Temperaturuniformitéit am Uewen vun ≤±5°C, wat eng gläichméisseg Erhëtzung vum Material garantéiert. Dës Eegeschaft ass entscheedend fir Prozesser wéi Eenkristallsiliziumwuesstum an Epitakzialoflagerung vu Hallefleeder, wouduerch Gitterdefekter effektiv reduzéiert ginn an d'Ausbezuelung verbessert gëtt.

Héich Rengheet a geréng Kontaminatioun

Den Äschegehalt vu Réistoffer gëtt streng kontrolléiert, a bal keng Ongereinheete ginn an Héichtemperaturëmfeld ausgefällt, wouduerch d'Kontaminatioun vu Waferen oder Thermofeldkomponenten vermeit gëtt. Et ass besonnesch gëeegent fir d'Hallefleederherstellung (wéi z. B. Wafer-CVD-Prozesser) an d'Hëtztbehandlung vu Materialien mat héijer Rengheet, wouduerch d'Propretéit vun der Prozesskammer garantéiert gëtt.

Schnell Reaktioun a Energiespueren

Déi héich Wärmeleitfäegkeet vum Grafit, kombinéiert mat engem optiméierten Strukturdesign, erhéicht d'Heizgeschwindegkeet vum Heizelement a verkierzt d'Prozesszyklen. Ausserdeem passt säin elektresche Widderstand präzis der Stroumversuergung un, wat zu enger Energieerspuernis vun 15% bis 30% am Verglach mat traditionelle Metallheizungen féiert, wat d'laangfristeg Betribskäschte reduzéiert.

eis Services

Semixlab Produktshop

ondefinéiert

Ëmfro

Hot Kategorien