EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Massiven SiC Fokusring fir Ätzen
De Fokusring vum massive SiC ass eng wichteg Komponent an fortgeschrattene Plasmaätzungssystemer fir Hallefleiter. Entworf fir de Waferrand beim Ätzen ze ëmschléissen, reguléiert en d'Plasmaverdeelung an d'Uniformitéit vum elektresche Feld, wouduerch konsequent Ätzprofiler iwwer déi ganz Waferuewerfläch garantéiert ginn. Dëse Fokusring, deen aus héichreinegem, volldichtem Siliziumcarbid (SiC) hiergestallt gëtt, bitt eng iwwerleeën Resistenz géint Plasmaerosioun, exzellent Wärmeleitfäegkeet an aussergewéinlech Dimensiounsstabilitéit, wat en ideal fir Plasmaätzungsprozesser mat héijer Dicht (ICP, RIE, DRIE) mécht.
Beschreiwung
De Solid SiC Fokusring fir Ätzung vu Semixlab kombinéiert fortgeschratt Materialien, Präzisiounstechnik a bewährte Prozessleistung. Entworf fir héich Plasmabeständegkeet a minimal Kontaminatioun, garantéiert en eng iwwerleeën Uniformitéit, eng méi laang Liewensdauer an e stabile Werkzeugbetrieb an usprochsvollen Ätzëmfeld.
Spezifikatioune
Materialzesummesetzung a Schlësseleigenschaften
De Solid SiC Fokusring vu Semixlab ass aus gesintertem SiC mat héijer Dicht, aussergewéinlecher Rengheet a kontrolléierter Mikrostruktur hiergestallt.
Kärphysikalesch Eegeschafte sinn ënner anerem:
| Physikalesch Eegeschafte vu festem SiC | |||
| Dicht | 3.21 | g / cm3 | |
| Elektrizitéitswiderstand | 102 | Ω/cm | |
| Flexural Kraaft | 590 | MPa | (6000 kgf/cm2) |
| Young's Modulus | 450 | GPa | (6000 kgf/mm2) |
| Vickers Hardness | 26 | GPa | (2650 kgf/mm2) |
| CTE (RT-1000℃) | 4.0 | X10-6/K | |
| Wärmeleitfäegkeet (RT) | 250 | W / mK | |
Dës Eegeschafte garantéieren eng stabil a widderhuelbar Leeschtung ënner usprochsvollen Ätzbedingungen.
Applicatioun
Uwendungen an Halbleiter-Ätzprozesser
1. Héichdicht-Plasmaätzung (ICP / RIE)
De SiC-Fokusring stabiliséiert d'Plasmadicht an d'elektrescht Feldverdeelung no beim Waferrand, wouduerch d'Iwwerätzung vum Rand effektiv miniméiert gëtt an d'Uniformitéit vun der kritescher Dimensioun (CD) verbessert gëtt. Seng robust Erosiounsbeständegkeet verlängert d'Liewensdauer och bei héijer Ionenenergiebelaaschtung.
2. Déif Reaktiv Ionenätzen (DRIE)
Wärend DRIE-Prozesser – déi an der MEMS- a Kraaftwierksproduktioun üblech sinn – hält de Solid SiC Fokusring widderholl Ionenbombardement a Polymeroflagerung ouni Deformatioun aus. Seng niddreg Partikelgeneratioun dréit zu enger méi héijer Ausbezuelung a reduzéierten Ënnerhaltszyklen bäi.
3. Ätzëmfeld op Basis vu Fluor a Chlor
Déi chemesch Inertitéit vu SiC verhënnert d'Reaktioun mat halogenbaséierte Plasmagaser (SF₆, CF₄, Cl₂, BCl₃), wat eng laangfristeg dimensional Stabilitéit garantéiert an d'Kammer virun Kontaminatioun oder metallescher Diffusioun schützt.
4. Kraaftvoll an laangfristeg Ätzen
Mat exzellenten Wärmemanagement-Eegeschafte leet SiC d'Hëtzt vun engem laangen Héichenergie-Ätzen effizient of, wouduerch d'mechanesch Integritéit an d'Dimensiounsgenauegkeet och bei schwéiere Temperaturzyklen erhale bleiwen.
Kompetitiv Virdeel
Déi technesch Virdeeler vu Semixlab
1. Fortgeschratt Materialingenieurwesen
Semixlab benotzt Präzisiounssinterung an héichreine SiC-Pulvertechnologie, fir eng aussergewéinlech Materialdicht an eng mikrostrukturell Uniformitéit z'erreechen. All Komponent gëtt CNC-bearbechtet a poléiert d'Spigeloberfläche, wat eng präzis Geometrie a reduzéiert Plasmainterferenz garantéiert.
2. Vollstänneg Personnalisatiounsméiglechkeet
Mir bidden individuell entwéckelt Fokusréng, déi op verschidde OEM-Ätzplattforme zougeschnidden sinn (LAM, TEL, AMAT, Oxford, etc.). Geometrie, Konduktivitéit an Déckt kënnen no Ärem Plasmaëmfeld an der Wafergréisst (200 mm / 300 mm / 450 mm) optimiséiert ginn.
3. Rigoréis Qualitéitstester
All SiC-Deeler ginn no strenge dimensionalen, thermeschen a Plasmawiderstandsnormen getest, dorënner:
● Dicht- a Porositéitsverifizéierung
● Plasmaerosiounssimulatioun a beschleunegt Verschleisstester
● Inspektioun vun der Uewerflächenrauheet (Ra ≤ 0.05 μm)
● Zertifizéierung vun der thermescher Belaaschtung a Flaachheet
Semixlab ass e féierende Produzent vu Siliziumkarbid (SiC) Komponenten mat héijer Rengheet a China, spezialiséiert op präzis konstruéiert Solid SiC Fokusréng fir fortgeschratt Plasmaätzsystemer. Konstruéiert fir aussergewéinlech Plasmabeständegkeet, thermesch Stabilitéit a dimensional Präzisioun, garantéiert all Fokusréng eng eenheetlech Plasmaverdeelung an eng iwwerleeën Ätzprofilkontroll.
Fir personaliséiert Designen, technesch Berodung oder Probebewertung, kontaktéiert w.e.g. eis Spezialisten fir Hallefleedermaterialien.
eis Services
Semixlab Produktshop
