Massiven SiC-Kanterank

Schlëssel Leeschtung Fonctiounen

De Semixlab Bulk SiC Edge Ring ass entwéckelt fir den héijen Ufuerderungen vun der Hallefleederproduktioun vun der nächster Generatioun gerecht ze ginn. Déi folgend Leeschtungseigenschaften maachen et zu enger bevorzugter Wiel fir Plasmaätzkammeren an fortgeschrattene Fabriken:

● Excellent Resistenz géint Plasmabombardement

De Kantrank, deen aus héichreinem Festsiliziumcarbid hiergestallt ass, weist eng aussergewéinlech Widderstandsfäegkeet géint héichdichteg Plasma op, wat minimale Verschleiung an eng verlängert Liewensdauer vun de Komponenten ënner intensivem Ionenbombardement garantéiert.

● Iwwerleeën Gaskorrosiounsbeständegkeet

SiC-Material bitt eng héich chemesch Inertitéit a hält korrosive Ätzgase wéi Cl₂, CF₄ a SF₆ effektiv stand, ouni Uewerflächenverschlechterung, och a héichtemperaturéierten Ëmfeld.

● Aussergewéinlech Widderstandsfäegkeet géint Thermoschocken a Wärmebelaaschtung

Mat enger Wärmeleitfäegkeet vun 120-150 W/m·K an engem niddregen thermeschen Ausdehnungskoeffizient (~4.5×10⁻⁶ /K) behält déi massiv SiC-Struktur hir dimensional Stabilitéit a mechanesch Integritéit während schnelle thermesche Zyklen.

● Glat Uewerfläch, partikelfräi Operatioun

Fortgeschratt Uewerflächenveraarbechtungstechniken garantéieren eng niddreg Uewerflächenrauheet (Ra ≤ 0.2 µm), miniméieren d'Partikelbildung an vereinfachen d'Kammerreinigungsprozesser, wat d'Ausfallzäit reduzéiert.

● Keng Verzerrung oder Deformatioun mat der Zäit

Am Géigesaz zu konventionelle Komposit-Kanteréng bleift eisen monolithesche SiC-Design flaach a formstabil während verlängerte Prozesszyklen, wat eng zouverlässeg Leeschtung iwwer laang Liewensdauer liwwert.

Firwat solle mir Semixlab SiC Kantenréng wielen?

Bei Semixlab liwwere mir iwwerleeën Qualitéit, ënnerstëtzt vun Expertise an Innovatioun. Hei ass firwat Semixlab SiC Edge Rings sech eraushiewen:

● Léisungen op Mooss

Mir bidden eng komplett Personnaliséierung baséiert op Äre Prozessspezifikatiounen, inklusiv bannenzegen/äusseren Duerchmiesser, Déckt a speziell Uewerflächenbeschichtungen oder Texturen, fir eng perfekt Passform an optimal Leeschtung an Ärer Ätzkammer ze garantéieren.

● Ëmfangräich Palette vun Typen

Semixlab ënnerstëtzt verschidde Ätzwierkzeugplattforme wéi TEL, Lam, AMAT a personaliséiert OEM-Systemer, mat souwuel Standard- wéi och wierkzeugspezifesche Kantenréng, déi fir verschidde Prozessbedürfnisser verfügbar sinn.

● Stabil Qualitéit, séier Liwwerung

Mat ISO-zertifizéierter Produktioun, strenger Qualitéitskontroll an enger optiméierter Liwwerketten garantéiere mir eng konsequent Leeschtung vun den Deeler, kuerz Liwwerzäiten a pünktlich Liwwerungen, fir datt Är Produktioun ouni Verspéidungen weidergoe kann.

Kärphysikalesch Eegeschafte vu festem SiC

Uwendung an der Hallefleiterproduktioun

De Solid SiC Edge Ring ass eng essentiell Komponent am Plasmaätzprozess vu Siliziumwaferen, wou en als schützende a strukturell Grenzfläche tëscht dem Wafer an der Kammerhardware déngt. Dës Komponent, déi ronderëm de Rand vum Wafer positionéiert ass, garantéiert d'Prozessstabilitéit, schützt den elektrostatesche Spannfutter (ESC) a reduzéiert d'Kontaminatiounsrisiken andeems se Partikelakkumulatioun verhënnert. En ass besonnesch wäertvoll an héichpräzisen Dréchenätzungs- an RIE-Ëmfeld (Reactive Ion Etching), wou d'Prozesswidderhuelbarkeet, de Kammerschutz an d'laangfristeg Zouverlässegkeet entscheedend sinn.