Héichreinheets-PECVD-Graphitbooter

Produktübersicht

PECVD-Graphitschëffer gi wäit verbreet a Solarzellen-Produktiounslinne benotzt, wou Siliziumwafere widderholl duerch Plasmabeschichtungs- a Passivéierungsprozesser musse goen. Well de Graphitträger direkt mat de Wafere beim Belueden, Transfert an Oflagerung a Kontakt kënnt, huet seng Stabilitéit e staarken Afloss op d'Kontaminatiounskontroll an d'Zouverlässegkeet vun der Automatiséierung.

Semixlab Graphitbooter gi mat gereinegtem Graphitmaterial mat engem niddregen Äschegehalt a stabiler Dichtverdeelung veraarbecht. D'Struktur ass op Basis vun de praktesche Betribsbedingungen entwéckelt, déi a kontinuéierleche Produktiounslinne fonnt ginn, besonnesch wou séier Temperaturännerungen an héichfrequent Roboterbehandlung üblech sinn.

Am tatsächleche Gebrauch leeë vill Fabriken net nëmmen op d'Reinheet op, mä och op d'Deformatioun no laange Produktiounszyklen. En Träger, deen ze séier biegt oder seng Form ännert, kann einfach zu Transferproblemer, Kratzer um Wafer oder onstabile Ladepositioune féieren. Fir dës Risiken ze reduzéieren, sinn d'Grafit-Booter mat relativ niddrege thermesche Expansiounseigenschaften an enger verbesserter mechanescher Konsistenz entwéckelt.

Verschidde Wafergréissten an Automatiséierungskonfiguratioune kënnen och no den Ufuerderunge vum Client ënnerstëtzt ginn. D'Produkt gëtt allgemeng fir TOPCon, HJT, PERC a verwandte PECVD Produktiounsëmfeld benotzt.

Schlëssel ass näischt geschitt

Gereinegt Grafitmaterial mat engem Äschegehalt ënner 20 ppm.

Stabil Struktur ënner widderhollten Heiz- a Killzyklen.

Manner thermesch Expansioun am Verglach mat konventionelle Graphitträger.

Gëeegent fir automatiséiert Wafer-Ladesystemer.

Reduzéiert Deformatioun während laangfristegem Plasmaprozessbetrieb.

Kompatibel mat M10- an M12-Waferproduktiounsplattformen.

Déi maschinell bearbechte Schlitzstruktur hëlleft d'Transferstabilitéit ze verbesseren.

Verfügbar fir personaliséiert Dimensiounen an Ofstänn tëscht de Pitchen.

Produktiouns- & Materialnotizen

D'Grafitmaterialien, déi fir dës Trägersystemer benotzt ginn, kënnen no de Prozessbedingungen an dem erwaarten Déngschtzyklus vum Client ausgewielt ginn. Ofhängeg vun der Uwendungsëmfeld kënnen importéiert Graphitqualitéiten oder inlännesch gereinegt Materialien berécksiichtegt ginn.

Semixlab ënnerstëtzt och d'Upassung vun der Bearbeitung op Basis vun ënnerschiddlechen Automatiséierungsplattformen, dorënner Schlitzofstand, Führungsstruktur, Belaaschtungsorientéierung a Montagekonfiguratioun. Virun der Masseproduktioun ginn d'Dimensiounsverifizéierung an d'Veraarbechtungsevaluatioun normalerweis no de Clientzeechnunge oder Proufufuerderunge duerchgefouert.

technesch Spezifikatiounen