Héichreinheets-Graphit-Heizungen
Semixlab High-Purity Graphit-Heizungen sinn entwéckelt fir fortgeschratt Hallefleeder-thermesch Prozesser, dorënner SiC-Kristallwuesstum, Epitaxie, CVD a Glühen bei héijen Temperaturen. Eis Heizungen, déi aus ultra-héichreinem isotropem Graphit hiergestallt ginn, liwweren eng exzellent Wärmeleitfäegkeet, eng séier Hëtztreaktioun, eng iwwerleeën Wärmeschockbeständegkeet a verlässlech Leeschtung ënner extremen Veraarbechtungsumgebungen. Personnaliséiert Designen a SiC-Beschichtungsoptioune si verfügbar fir usprochsvoll Hallefleeder-Uwendungen gerecht ze ginn.
Beschreiwung
Fortgeschratt Grafithëtzungsléisunge fir d'Héichtemperatur-Hallefleiterproduktioun
Bei Semixlab spezialiséiere mir eis op d'Liwwerung vun héichperformante Grafit-Heizungen mat héijer Reinheet, déi fir fortgeschratt Hallefleederherstellungsprozesser entwéckelt sinn, dorënner SiC-Kristallwuesstem, Hallefleeder-Epitaxie, CVD-Oflagerung an Héichtemperatur-Wärmebehandlung.
Eis Graphitheizungen gi mat héichreinem isotropem Graphit hiergestallt an fir extrem thermesch Konditiounen optimiséiert, wat zu enger zouverléisseger Leeschtung a Vakuum, Inertgas a Héichtemperatur-Halbleiterveraarbechtungssystemer suergt.
Rollen vun héichreine Graphitheizungen a Hallefleiterprozesser
① SiC Kristallwuesstumsprozess (PVT)
Eng vun de kriteschsten Uwendungen vun héichreine Grafithëtzer ass d'SiC-Bulkkristallwuesstem mat Hëllef vun der Physical Vapor Transport (PVT) Method.
Wärend dem SiC-Kristallwuesstum iwwerschreiden d'Temperaturen typescherweis: 2000 ℃
De Graphitheizung liwwert e stabilt thermescht Feld, dat fir:
● SiC-Pulversublimatioun
● Kontroll vum Damptransport
● Wuesstem vu Somkristaller
● Optimiséierung vun der Kristallqualitéit
② Hallefleiter-Epitaxieprozess
An epitaktischen Wuesssystemer wéi:
● MOCVD-Reaktoren
● SiC Epitaxie-Ausrüstung
● GaN Epitaxiesystemer
Graphitheizungen suergen fir präzis Waferheizung an Temperaturuniformitéit.
Hir primär Funktiounen enthalen:
● Wafer-Prozesstemperatur erhalen
● Verbesserung vun der Uniformitéit vun der epitaktischer Schicht
● Ënnerstëtzung vu stabile chemesche Reaktiounen
③ CVD an Héichtemperatur-Thermoveraarbechtung
Héichreinheets-Graphit-Heizungen ginn och wäit verbreet agesat an:
● CVD-Systemer
● Glühgeräter
● Diffusiounsuewen
● RTP-Systemer
Firwat Semixlab wielen?
① Expertise a Materialien a Hallefleiterqualitéit
Bei Semixlab konzentréiere mir eis op fortgeschratt Kuelestoff- a Keramikmaterialien fir Hallefleederapplikatiounen.
Eis Graphitléisunge gi mat strenger Kontroll iwwer folgend entwéckelt:
● Materialreinheet
● Strukturell Uniformitéit
● Uewerflächenqualitéit
● Thermesch Leeschtung
② Optiméiert thermesch Leeschtung
Eis Graphit-Heizungen bidden exzellent thermesch Leetfäegkeet a garantéieren:
● Schnell Heizungsreaktioun
● Stabil Temperaturverdeelung
● Aussergewéinlech Widderstandsfäegkeet géint thermesch Schock
Ënnerstetzung:
● Heefeg thermesch Zyklen
● Laang Liewensdauer
● Héichtemperaturfäegkeet
③ Personnaliséiert Designfäegkeet
Semixlab bitt personaliséiert Graphitheizungsléisungen no de Bedierfnesser vum Client, dorënner:
● Dimensiounen vun der Heizung
● Stroumkonfiguratioun
● Auswiel vum Grafitgrad
● Uewerflächenbeschichtungsoptiounen
● Kompatibilitéit vun Ausrüstung
Mir ënnerstëtzen verschidde Hallefleiterplattformen an thermesch Veraarbechtungssystemer mat applikatiounsspezifesche Léisungen.
Spezifikatioune
| Physikalesch Eegeschafte vum isostatesche Grafit | ||
| Property | Eenheet | Typesche Wäert |
| Bulk Dicht | g / cm³ | 1.83 |
| Hardness | HSD | 58 |
| Elektresch Resistivitéit | μΩ.m | 10 |
| Flexural Kraaft | MPa | 47 |
| Kompressive Kraaft | MPa | 103 |
| Kraaftstärkt | MPa | 31 |
| Young säi Modul | GPa | 11.8 |
| Thermal Expansioun (CTE) | 10-6K-1 | 4.6 |
| Thermesch Leitung | W·m-1K-1 | 130 |
| Duerchschnëtt Grain Gréisst | μm | 8-10 |
| Porositéit | % | 10 |
| Äschen Inhalt | ppm | ≤5 (nach gereinegt) |
eis Services

Semixlab Produktshop


EN
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ




