all Kategorie
Graphite
Héichreinheets-Graphit-Heizungen
Héichreinheets-Graphit-Heizungen

Héichreinheets-Graphit-Heizungen


Semixlab High-Purity Graphit-Heizungen sinn entwéckelt fir fortgeschratt Hallefleeder-thermesch Prozesser, dorënner SiC-Kristallwuesstum, Epitaxie, CVD a Glühen bei héijen Temperaturen. Eis Heizungen, déi aus ultra-héichreinem isotropem Graphit hiergestallt ginn, liwweren eng exzellent Wärmeleitfäegkeet, eng séier Hëtztreaktioun, eng iwwerleeën Wärmeschockbeständegkeet a verlässlech Leeschtung ënner extremen Veraarbechtungsumgebungen. Personnaliséiert Designen a SiC-Beschichtungsoptioune si verfügbar fir usprochsvoll Hallefleeder-Uwendungen gerecht ze ginn.

Beschreiwung

Fortgeschratt Grafithëtzungsléisunge fir d'Héichtemperatur-Hallefleiterproduktioun

Bei Semixlab spezialiséiere mir eis op d'Liwwerung vun héichperformante Grafit-Heizungen mat héijer Reinheet, déi fir fortgeschratt Hallefleederherstellungsprozesser entwéckelt sinn, dorënner SiC-Kristallwuesstem, Hallefleeder-Epitaxie, CVD-Oflagerung an Héichtemperatur-Wärmebehandlung.

Eis Graphitheizungen gi mat héichreinem isotropem Graphit hiergestallt an fir extrem thermesch Konditiounen optimiséiert, wat zu enger zouverléisseger Leeschtung a Vakuum, Inertgas a Héichtemperatur-Halbleiterveraarbechtungssystemer suergt.

Rollen vun héichreine Graphitheizungen a Hallefleiterprozesser

① SiC Kristallwuesstumsprozess (PVT)

Eng vun de kriteschsten Uwendungen vun héichreine Grafithëtzer ass d'SiC-Bulkkristallwuesstem mat Hëllef vun der Physical Vapor Transport (PVT) Method.

Wärend dem SiC-Kristallwuesstum iwwerschreiden d'Temperaturen typescherweis: 2000 ℃

De Graphitheizung liwwert e stabilt thermescht Feld, dat fir:

● SiC-Pulversublimatioun

● Kontroll vum Damptransport

● Wuesstem vu Somkristaller

● Optimiséierung vun der Kristallqualitéit

② Hallefleiter-Epitaxieprozess

An epitaktischen Wuesssystemer wéi:

● MOCVD-Reaktoren

● SiC Epitaxie-Ausrüstung

● GaN Epitaxiesystemer

Graphitheizungen suergen fir präzis Waferheizung an Temperaturuniformitéit.

Hir primär Funktiounen enthalen:

● Wafer-Prozesstemperatur erhalen

● Verbesserung vun der Uniformitéit vun der epitaktischer Schicht

● Ënnerstëtzung vu stabile chemesche Reaktiounen

③ CVD an Héichtemperatur-Thermoveraarbechtung

Héichreinheets-Graphit-Heizungen ginn och wäit verbreet agesat an:

● CVD-Systemer

● Glühgeräter

● Diffusiounsuewen

● RTP-Systemer

Firwat Semixlab wielen?

① Expertise a Materialien a Hallefleiterqualitéit

Bei Semixlab konzentréiere mir eis op fortgeschratt Kuelestoff- a Keramikmaterialien fir Hallefleederapplikatiounen.

Eis Graphitléisunge gi mat strenger Kontroll iwwer folgend entwéckelt:

● Materialreinheet

● Strukturell Uniformitéit

● Uewerflächenqualitéit

● Thermesch Leeschtung

② Optiméiert thermesch Leeschtung

Eis Graphit-Heizungen bidden exzellent thermesch Leetfäegkeet a garantéieren:

● Schnell Heizungsreaktioun

● Stabil Temperaturverdeelung

● Aussergewéinlech Widderstandsfäegkeet géint thermesch Schock

Ënnerstetzung:

● Heefeg thermesch Zyklen

● Laang Liewensdauer

● Héichtemperaturfäegkeet

③ Personnaliséiert Designfäegkeet

Semixlab bitt personaliséiert Graphitheizungsléisungen no de Bedierfnesser vum Client, dorënner:

● Dimensiounen vun der Heizung

● Stroumkonfiguratioun

● Auswiel vum Grafitgrad

● Uewerflächenbeschichtungsoptiounen

● Kompatibilitéit vun Ausrüstung

Mir ënnerstëtzen verschidde Hallefleiterplattformen an thermesch Veraarbechtungssystemer mat applikatiounsspezifesche Léisungen.

Spezifikatioune
Physikalesch Eegeschafte vum isostatesche Grafit
Property Eenheet Typesche Wäert
Bulk Dicht g / cm³ 1.83
Hardness HSD 58
Elektresch Resistivitéit μΩ.m 10
Flexural Kraaft MPa 47
Kompressive Kraaft MPa 103
Kraaftstärkt MPa 31
Young säi Modul GPa 11.8
Thermal Expansioun (CTE) 10-6K-1 4.6
Thermesch Leitung W·m-1K-1 130
Duerchschnëtt Grain Gréisst μm 8-10
Porositéit % 10
Äschen Inhalt ppm ≤5 (nach gereinegt)
eis Services

Semixlab Produktshop

semixlab-Produkter-Lager

Ëmfro

Hot Kategorien