Poréisen Grafit vun héijer Reinheet

Héichreine poröse Graphit ass e wichtegt Material fir fortgeschratt Hallefleederproduktioun, wou seng aussergewéinlech thermesch Stabilitéit, ultra-niddreg Kontaminatiounsniveauen a Prozesskonsistenz vun essentiellen Bedeitung sinn. D'Héichreine poröse Graphitléisunge vu Semixlab sinn speziell fir Héichtemperatur- a Kontaminatiounsempfindlech Hallefleederprozesser entwéckelt ginn.

An Epitaxieprozesser gëtt héichreine porösen Graphit extensiv a Schlësselkomponenten wéi Substrathalter, Waferträger, Gasverdeelungsstrukturen an thermesche Feldelementer benotzt. Wärend dem epitaktischen Wuesstum vu Si, SiC a GaN sinn eng präzis Temperaturuniformitéit a stabile Gasfloss kritesch Faktoren fir d'Kontroll vun der Filmdicke, d'Dotieruniformitéit an d'Defektënnerdréckung. Déi porös Mikrostruktur vum Semixlab-Graphit erméiglecht eng méi gläichméisseg thermesch Verdeelung a kontrolléiert Gasdiffusioun iwwer d'Waferuewerfläch, wouduerch d'Grenzschichtinstabilitéit an d'Kanteeffekter reduzéiert ginn.

Wärend Diffusiouns- an Oxidatiounsprozesser, déi e laangfristege Betrib iwwer 1000 °C erfuerderen, déngt héichreine poröse Graphit als zouverléissegt Struktur- a Stützmaterial fir Waferbooter, Ausleger a Wärmeisolatiounskomponenten. Am Verglach mat dichtem Graphit reduzéiert seng porös Struktur thermesch Belaaschtung an Deformatioun während widderholltem thermesche Zyklen, verbessert d'Dimensiounsstabilitéit an verlängert d'Liewensdauer vun de Komponenten. Seng inherent chemesch Inertheet an den niddrege Verunreinigungsgehalt hëllefen, eng propper Prozessëmfeld z'erhalen, andeems se eng strikt Kontroll iwwer d'Diffusiounsprofiler vum Dotierstoff an d'Qualitéit vum Oxidfilm ënnerstëtzen, während d'Risike vun der Partikelbildung a Kräizkontaminatioun miniméiert ginn.

Fir CVD-, LPCVD- a PECVD-Prozesser spillt héichreine poröse Graphit eng entscheedend Roll an Heizkierper, Waferträger a Komponenten vun der interner Kammer, déi reaktive Gaser an héijen Temperaturen ausgesat sinn. Déi exzellent Wärmeleitfäegkeet vum Material garantéiert eng séier an eenheetlech Wärmeiwwerdroung, während seng porös Struktur eng kontrolléiert Ofspärung vun Oflagerungsnebenprodukter erméiglecht, wouduerch d'Ofschielen an d'Partikelfräisetzung während engem längeren Operatiounsbetrib vun der Ausrüstung miniméiert ginn. Dëst dréit direkt zu enger verbesserter Prozessstabilitéit, verlängerten Ënnerhaltsintervaller an enger erhéichter Betribsdauer vun der Ausrüstung bäi.

De porösen Graphit vu Semixlab mat héijer Reinheet gëtt ënner engem rigoréise Qualitéitskontrollsystem hiergestallt, mat enger grëndlecher Gestioun vun der Auswiel vun de Rohmaterialien, der Reinigung an der Mikrostrukturentwécklung. Wann eng verlängert Liewensdauer oder e Betrib a méi usprochsvollen chemeschen Ëmfeld erfuerderlech ass, ass dëst Produkt kompatibel mat fortgeschrattene Schutzbeschichtungen wéi SiC oder TaC. Duerch aussergewéinlech Designflexibilitéit, Bearbechtbarkeet an fortgeschratt Hallefleederbeschichtungstechnologie kënnen eis Léisunge präzis op déi spezifesch Ufuerderunge vun Ärer Hallefleederausrüstungsplattform a Prozessknuet ugepasst ginn. Mir freeën eis häerzlech drop, Äre laangfristege Partner a China ze ginn.