EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Semiconductor Quarz Bad
Quick Detail:
1. Aner Nimm: Hallefleiterquarztank, Quarzbad fir Hallefleiter, Quarztank fir Hallefleiter.
2. Uwendung: De Quarzbad fir Hallefleiter ass eng héichrein, korrosiounsbeständeg Komponent, déi speziell fir Präzisiounsreinigung a chemesch Veraarbechtung an der Hallefleiterproduktioun entwéckelt gouf. Dëst Quarzbad, dat fir Kompatibilitéit mam WS-620C/WS-820C/WS-820L System entwéckelt gouf, funktionéiert ënner héijen Temperaturen (bis zu 175°C) an ass fir d'Benotzung mat Phosphorsäure (H₃PO₄)-Léisungen optimiséiert, wat eng aussergewéinlech Leeschtung a kritesche Waferreinigungsprozesser garantéiert.
3. Kär Parameteren:
Schmelz Quarz (>99.99% SiO₂).
Aussergewéinlech chemesch Inertitéit géintiwwer H₃PO₄ (Phosphorsäure) bei erhéichten Temperaturen, wat Degradatioun oder Partikelbildung verhënnert.
Hält engem kontinuéierleche Betrib bei 160°C an Héchsttemperature vun 175°C stand, wouduerch seng strukturell Integritéit a dimensional Stabilitéit behalen ginn.
Beschreiwung
D'Halbleiterquartzbad ass eng héichrein, korrosiounsbeständeg Komponent, déi speziell fir Präzisiounsreinigung a chemesch Veraarbechtung an der Hallefleiterproduktioun entwéckelt gouf. Dëst Quarzbad, dat fir Kompatibilitéit mam WS-620C/WS-820C/WS-820L System entwéckelt gouf, funktionéiert ënner héijen Temperaturen (bis zu 175°C) an ass optiméiert fir d'Benotzung mat Phosphorsäure (H₃PO₄) Léisungen, wat eng aussergewéinlech Leeschtung a kritesche Waferreinigungsprozesser garantéiert.
Schlëssel ass näischt geschitt
Material Superioritéit
Héichreine Quarz: Hiergestallt aus syntheteschem geschmolzene Quarz (>99.99% SiO₂), wat minimal Kontaminatioun a Widderstand géint Wärmeschock garantéiert.
Seier Resistenz
Aussergewéinlech chemesch Inertitéit géintiwwer H₃PO₄ (Phosphorsäure) bei erhéichten Temperaturen, wat Degradatioun oder Partikelbildung verhënnert.
Thermesch Stabilitéit
Hält engem kontinuéierleche Betrib bei 160°C an Héchsttemperature vun 180°C stand, wouduerch seng strukturell Integritéit a dimensional Stabilitéit behalen ginn.
Leeschtung Virdeeler
Kontaminatiounskontroll: Ultraglat Uewerflächenfinish miniméiert d'Partikelhaftung, wat entscheedend ass fir Submikron-Hallefleeder-Knuetprozesser.
Langlebigkeit: D'Resistenz vu Quarz géint Säurekorrosioun an thermesch Middegkeet verlängert d'Liewensdauer, reduzéiert Ausfallzäiten a Wartungskäschten.
Prozesskonsistenz: Stabil Wärmeleitfäegkeet garantéiert eng gläichméisseg Temperaturverdeelung, verbessert d'Botzleistung an d'Widderhuelbarkeet.
Firwat soll een d'Hallefleiter-Quarzbad vu Semixlab wielen?
Qualitéit vun Hallefleiterqualitéit: Produzéiert an enger propperer Raimlechkeet fir de SEMI-Standarden ze erfëllen.
Moossgeschneidert Léisungen: Moossgeschneidert Designen sinn verfügbar fir spezifesch Prozessufuerderungen gerecht ze ginn.
Zouverlässegkeet: Rigoréis Qualitéitstester garantéieren d'Konformitéit mat den Ufuerderunge vun der Hallefleederindustrie.
Spezifikatioune
| Mechanesch Propriétéit | Dicht (g/cm²3) | 2.2 |
| Mohs Härz | 6-7 | |
| Drockfestigkeit (MPa) | 1100 | |
| Zuchfestigkeit (N/mm2) | 50 | |
| Biegefestigkeit (N/mm2) | 65 | |
| Torsiounsfestigkeit (N/mm)2) | 30 | |
| Young säi Modul (MPa) | 7.2x104 | |
| Poisson säi Verhältnis | 0.16 | |
| Thermesch Eegeschafte | Koeffizient vun der thermescher Expansioun (20~320℃, k-1) | 5.5x10-7 |
| Wärmeleitfäegkeet (20℃, W·m²)-1k-1) | 1.4 | |
| Spezifesch Hëtzt (20℃, J·kg)-1k-1) | 670 | |
| Erweichungspunkt (℃) | 1700 | |
| Glühpunkt (℃) | 1180 | |
| Dehnungspunkt (℃) | 1080 | |
| Elektresch Immobilie | Elektresche Widderstand (Ω·m) | 1x1016(20 ℃) |
| Dielektresch Konstant (10 GHz) | 3.74 | |
| Dielektresch Verloscht (10 GHz) | 0.0002 | |
| Dielektresch Stäerkt (V·m-1) | 3.7x107 |
Applicatioun
Waferreinigung: Entfernung vu Photoresist, Réckstänn a Kontaminanten an H₃PO₄-baséierte Léisungen no der Ätzung oder Lithographie.
Héichtemperaturprozesser: Gëeegent fir fortgeschratt Hallefleederfabrikatiounsschritte, déi aggressiv Chemikalien bei erhéichten Temperaturen erfuerderen.
Kompatibilitéit: Ideal fir de WS-620C/WS-820C/WS-820L System a Fabriken, déi Logik-, Speicher- oder Energieversuergungsapparater produzéieren.
